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JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A

真空科學(xué)與技術(shù)雜志A

期刊周期:Bimonthly
研究方向:工程技術(shù)
影響因子:1.833
通訊地址:A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502
官網(wǎng):http://avspublications.org/jvsta/
投稿地址:http://jvsta.peerx-press.org/cgi-bin/main.plex
審稿速度:一般,3-6周

  中文簡(jiǎn)介

1983年,原《真空科學(xué)與技術(shù)雜志》拆分后,創(chuàng)辦了《真空科學(xué)與技術(shù)雜志A》和《真空科學(xué)與技術(shù)雜志B》。JVSTA致力于出版關(guān)于材料、薄膜和等離子體的界面和表面的原始研究報(bào)告、信件和評(píng)論文章。JVSTA發(fā)布的報(bào)告在基本層面上促進(jìn)了對(duì)接口和表面的基本理解,并使用這種理解促進(jìn)了各種技術(shù)應(yīng)用程序中的最新技術(shù)。范圍包括但不限于以下主題:應(yīng)用和基礎(chǔ)表面科學(xué)原子層沉積電子和光子材料及其加工磁性薄膜和界面用于能量轉(zhuǎn)換和儲(chǔ)存的材料和薄膜光伏,包括無(wú)機(jī)和有機(jī)薄膜太陽(yáng)能電池等離子體科學(xué)與技術(shù),包括等離子體-表面相互作用、等離子體診斷、等離子體沉積和蝕刻以及等離子體在微電子和納米電子領(lǐng)域的應(yīng)用表面工程薄膜沉積、蝕刻、性質(zhì)及特性透射電鏡,包括原位法摩擦學(xué)真空科學(xué)與技術(shù)

  英文簡(jiǎn)介

In 1983, the two journals, Journal of Vacuum Science and Technology A and B were launched when the original Journal of Vacuum Science and Technology was split.JVSTA is devoted to publishing reports of original research, letters, and review articles on interfaces and surfaces of materials, thin films, and plasmas. JVSTA publishes reports that advance the fundamental understanding of interfaces and surfaces at a fundamental level and that use this understanding to advance the state of the art in various technological applications. The scope includes, but is not limited to, the following topics:Applied and fundamental surface scienceAtomic layer depositionElectronic and photonic materials and their processingMagnetic thin films and interfacesMaterials and thin films for energy conversion and storagePhotovoltaics, including inorganic and organic thin-film solar cellsPlasma science and technology, including plasma-surface interactions, plasma diagnostics plasma deposition and etching, and applications of plasmas to micro- and nanoelectronicsSurface engineeringThin film deposition, etching, properties, and characterizationTransmission electron microscopy, including in situ methodsTribologyVacuum science and technology

  近年期刊自引率趨勢(shì)圖

  JCR分區(qū)

JCR分區(qū)等級(jí) JCR所屬學(xué)科 分區(qū) 影響因子
Q2 PHYSICS, APPLIED Q2 3.234
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS Q3

  近年期刊影響因子趨勢(shì)圖

  CiteScore數(shù)值

CiteScore SJR SNIP 學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
4.40 0.676 0.992 大類:Materials Science 小類:Surfaces, Coatings and Films Q2 44 / 129

66%

大類:Materials Science 小類:Surfaces and Interfaces Q2 20 / 57

65%

大類:Materials Science 小類:Condensed Matter Physics Q2 147 / 415

64%

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